В России создали оборудование для создание микросхем техпроцесса 65 нм
Научно-исследовательские институты, входящие в группу компаний «Элемент»,завершили создание первых в России систем для плазмохимического осаждения и травления, которые позволяют производить микросхемы по топологическим нормам 65 нм на пластинах диаметром 200 мм и 300 мм.
По словам замминистра промышленности и торговли РФ Василия Шпака, особую ценность представляет модульность платформы, поскольку она позволяет отрабатывать процессы на существующем оборудовании и служит основой для перехода к более тонким техпроцессам.
Еще больше о том, что #СделановРоссии , — по хештегу в ЗАН. Подписывайтесь!
